Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS
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期刊基础介绍
The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.
期刊核心参数
通讯方式
SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225
涉及的研究方向
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
出版国家或地区
UNITED STATES
出版语言
English
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平均录用比例
容易
CITESCORE
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||||||
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| 3.40 | 0.393 | 1.723 |
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WOS期刊JCR分区
WOS分区等级：0区暂无按学科分区信息
期刊分区表预警名单
2025年03月发布的2025版：不在预警名单中2024年02月发布的2024版：不在预警名单中
2023年01月发布的2023版：不在预警名单中
2021年12月发布的2021版：不在预警名单中
2020年12月发布的2020版：不在预警名单中
中科院2025年3月升级版
点击查看中国科学院期刊分区趋势图| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 | ||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 物理与天体物理 3区 |
| 否 | 否 |
中科院2023年12月旧的升级版
| 大类学科 | 小类学科 | Top期刊 | 综述期刊 | ||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 物理与天体物理 2区 |
| 否 | 否 |